报告题目： 从超分辨成像到超分辨直写光刻

报告学者：匡翠方

报告者单位：浙江大学

报告摘要： 由于光学衍射的存在，常规光学显微镜的成像分辨率被限制在照明光波长的一半左右，严重限制对于更细微结构的观察。光学超分辨显微成像技术的提出为绕过衍射极限提供了切实可行的方法。本报告着重介绍基于点扫描超分辨显微方法与技术的发展及其特点。另一方面，点扫描双光子激光直写技术凭借其高分辨加工能力、低热影响性、具有真三维加工能力等特点，一直是三维微纳加工与刻写技术中的研究热点。报告介绍近年来团队在前期点扫描超分辨成像基础上提出的边缘抑制超分辨激光直写方法、技术及装备，为解决微纳制造提供一种了新途径。

个人简介： 浙江大学光电学院教授，极端光学技术与仪器全国重点实验室副主任。主要从事超分辨显微成像、超分辨光刻相关研究。主持国家自然科学基金委杰出青年基金、重大仪器专项基金等各类项目， 在国内外学术期刊发表论文200多篇。 2019年度王大珩光学奖-中青年科技人员光学奖。成果获得2019年中国技术发明二等奖（2/6），2024获浙江省技术发明一等奖，2024年获中国光学学会技术发明特等奖。

报告时间：2025年11月23日星期日-下午14点至16点

报告地点：机械楼，Z306